国立研究開発法人科学技術振興機構（ＪＳＴ）が半導体関連の製造技術の新技術説明会を開催します。開催概要は、以下の通りです。

【日時】2017年06月29日(木) 9:55～11:55

【会場】JST東京本部別館1Fホール（東京・市ケ谷）

【参加費】無料

【主催】科学技術振興機構、茨城大学、宇都宮大学、群馬大学、埼玉大学

【後援】特許庁

【内容】

9:55～10:00 開会挨拶

群馬大学　研究・産学連携推進機構　教授

10:00～10:25

1） 3次元微細加工技術とそのバイオ・エネルギー応用

群馬大学　大学院理工学府　知能機械創製部門　准教授

10:30～10:55

2） 放電プラズマの見える化技術

埼玉大学　大学院理工学研究科　数理電子情報部門電気電子システムコース　助教

11:00～11:25

3） 有機・無機ペロブスカイト薄膜の簡便な塗布成膜方法の開発と太陽電池応用

埼玉大学　大学院理工学研究科　物質科学部門　助教

11:30～11:55

4） 単相Ruバリア膜の低温生成法及び成膜装置

茨城大学　工学部　マテリアル工学科　講師